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      • 1200℃滑動(dòng)式三溫區(qū)CVD系統(tǒng)(1).jpg
      • 1200℃滑動(dòng)式單雙溫區(qū)CVD系統(tǒng).jpg

      1200℃滑動(dòng)式單、雙、三溫區(qū)CVD系統(tǒng)

      產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

      關(guān)鍵詞:

      CVD系統(tǒng)

      圖片名稱

      銷售熱線:

      • 產(chǎn)品描述
      • 技術(shù)參數(shù)
      • 聯(lián)系我們
        • 商品名稱: 1200℃滑動(dòng)式單、雙、三溫區(qū)CVD系統(tǒng)
        • 商品編號(hào): 1034429691655446528

        產(chǎn)品用途:此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

        銷售熱線:15122725930 

         

        產(chǎn)品用途:

        此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測(cè)試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

        生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。

         

        產(chǎn)品組成:

        CVD系統(tǒng)配置:

        1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。

        2.滑動(dòng)系統(tǒng)分為手動(dòng)、電動(dòng)滑動(dòng),并配有風(fēng)冷系統(tǒng)。

        3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

        4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)    

         

        產(chǎn)品特點(diǎn):

        1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。

        2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司設(shè)計(jì),提高操作便捷性。

        3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng),耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。

        4 (電動(dòng))滑動(dòng)系統(tǒng)采用溫度控制器自動(dòng)控制爐體移動(dòng),等程序完成,爐體按設(shè)定的速度滑動(dòng),因有滑動(dòng)限位功能爐體不會(huì)發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風(fēng)冷系統(tǒng)快速降溫。

        關(guān)鍵詞:
        • CVD系統(tǒng)
      • 詳細(xì)技術(shù)方案請(qǐng)聯(lián)系客服人員!

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        聯(lián)系地址: 天津北辰科技園區(qū)雙川道11號(hào)

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